近日据芯智讯报道，俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断，为全球半导体产业带来新的变革。 EUV光刻机是制造 ...

LLNL长期以来一直是EUV光刻技术的开发先驱。 位于加利福尼亚州的一家实验室将为极紫外（EUV）光刻技术的下一次发展奠定基础。该项目由劳伦斯利 ...

制造尖端芯片不可或缺的EUV（极紫外）光刻设备即将登陆日本。日本Rapidus（位于东京千代田区）将于2024年内在千岁工厂(北海道千岁市)引进，这将是日本国内首次引进。将由世界上唯一制造EUV光刻设备的荷兰阿斯麦(ASML)提供。 以Rapidus为开端，日本的 ...

在半导体制造行业，DUV（深紫外）光刻机可以用于制造7nm及以上工艺的芯片，涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，而ASML则凭借着对EUV光刻机和浸润式DUV光刻机的垄断，掌控着全球几乎所有晶圆厂的芯片制造命脉。 2024年4月，克里斯托夫·富凯（Christophe ...

他认为，美国政府祭出的禁止EUV出口中国大陆禁令确实有效，让中国落后西方约15 年。儘管传出中芯国际曾订购一台EUV设备，但ASML为遵守国际出口 ...

所以，目前光刻机依然是所有芯片设备中，最关键的设备之一。 也正因为如此，所以美国限制ASML自由的将光刻机卖给我们，EUV肯定是不准卖的，连浸润式DUV光刻机，也做了限制，先进的不准卖，只能卖一些相对落后一点的给我们。 美国的目的很简单，卡住了 ...

自哈工大那振奋人心的13.5纳米等离子极紫外刻光源问世，一切便已悄然铺陈。ASML光刻机的核心光源，同样源自美国，且技术规格与我国自主研发的如出一辙，这无疑预示着，国产EUV光刻机突破5纳米工艺桎梏的曙光已近在眼前。 美国依赖台积电的技术输血 ...

而王国辉突然表态看好中芯国际，认为中国国内市场庞大且具备一定的“隔离效应”，中芯国际缺的是一台国产EUV光刻机，一旦有公司成功研发出EUV ...

因此，光刻机作为芯片制造设备的核心地位依然稳固。 美国对ASML向中国出售光刻机的限制，尤其是禁止EUV光刻机出口，以及限制先进浸润式DUV光刻机的销售，进一步凸显了光刻机技术的重要性。美国的策略旨在通过控制光刻机的供应，来限制中国在芯片制造 ...